三區(qū)不均匀(yún)分布模(mó)型如下圖所示
，即(jí)分為主(zhǔ)流區(qū)，渦(wō)流(liú)區和回(huí)風口區。其出(chū)發點(diǎn)是(shì)
：
1，在(zài)主(zhǔ)流區(qū)內
，由於工作區以上(shàng)有(yǒu)一定(dìng)的風(fēng)速
，塵(chén)源Ga是(shì)不(bù)可能逆著(zhuó)氣(qì)流不(bù)斷(duàn)的(dí)均匀的把(bǎ)塵粒(lì)分散到全部主流(liú)區去的。因為塵粒(lì)靠(kào)擴散，沉降，機(jī)械力等作用分散到(dào)全室(shì)的可能(néng)性較小
，主(zhǔ)要是隨著氣流(liú)運動而(ér)分布(bù)
，所(suǒ)以說塵(chén)粒在室內(nèi)的(dí)“擴散"不如說(shuō)是“分布(bù)"更合(hé)適
，這就(jiù)是(shì)用(yòng)“均(jūn)匀分布(bù)"，“不均(jūn)匀分(fēn)布"
，而(ér)不(bù)用(yòng)“均(jūn)匀擴散"，“不(bù)均匀擴散(sàn)"的原因(yīn)
，而(ér)且(qiě)用(yòng)“擴(kuò)散"一詞(cí)容易理(lǐ)解為(wéi)單(dān)純的分子擴散(sàn)運動(dòng)。

2，主(zhǔ)流區內(nèi)塵源散(sàn)發(fā)的(dí)塵(chén)粒(lì)
，一部(bù)分隨著渦(wō)流(liú)由下而上再(zài)由上而下(xià)較均匀的(dí)進入送風(fēng)氣(qì)流的全邊界層內。由簡單的實驗(yàn)可(kě)以看(kàn)出(chū)
，在(zài)一股相當(dāng)寬的送(sòng)風氣(qì)流(liú)中
，如(rú)果有(yǒu)一(yī)個塵(chén)源
，則其橫(héng)向分布至(zhì)全氣流截(jié)麵(miàn)是不太(tài)可能的
，當氣流速度(dù)為(wéi)0.5m/s時(shí)
，塵源後的擴張角才5〫~6〫；在(zài)講(jiǎng)下(xià)限風速時已(yǐ)經(jīng)知(zhī)道(dào)
，送風速度(dù)為0.25m/s對控製2m/s左右噴發(fā)速度的汙染的(dí)橫(héng)向散(sàn)布(bù)已(yǐ)足(zú)夠了(liǎo)
，噴(pēn)發速度(dù)很小的汙(wū)染
，逆著(zhuó)氣流散布(bù)就更(gēng)不(bù)可能。